Powroty do Polski 29.08-31.10.2025 Warszawa

nn6t.pl 4 godzin temu

Joanna Helander stworzyła wiele wybitnych portretów ludzi kultury drugiej połowy XX wieku: Czesława Miłosza, Mirona Białoszewskiego, Tadeusza Konwickiego, Ryszarda Krynickiego, członków zespołu Teatru Ósmego Dnia, Stanisława Barańczaka, Wisławy Szymborskiej (towarzyszyła poetce podczas uroczystości wręczenia literackiego Nobla). To nie były szybkie zlecenia – fotografowała przyjaciół, ludzi bliskich jej światopoglądowo i emocjonalnie (również życie codzienne w PRL-u). Wystawa Możność utrwalania w warszawskim Muzeum Literatury będzie nie tylko okazją do zapoznania się z jej dorobkiem, ale też spotkania z samą autorką.

Fotografie zestawione na wystawie z listami, dokumentami, fragmentami wierszy i filmami tworzą wielowarstwową narrację o literackim Pokoleniu ’68. Formacyjnym momentem dla tych twórców były wydarzenia Marca ’68. Helander również brała wówczas udział w protestach, które ogarnęły kraj. Sprzeciwiła się interwencji w Czechosłowacji, za co została objęta inwigilacją i represjami, ostatecznie trafiła do więzienia. „Jej późniejsza emigracja do Szwecji nie była więc ucieczką, ale aktem politycznym. Fotografując Polskę, fotografowała kraj sobie bliski i obcy jednocześnie.” – piszą w tekście kuratorskim Sonia Jaszczyńska i Olga Wiktoria Wybodowska.

Na wystawie zobaczymy też diaporamy i kreacyjne filmy dokumentalne zrealizowane wspólnie z Bo Perssonem (m.in. Walc z Miłoszem). W 2020 roku napisała: „W moich albumach i wystawach wracam ciągle do przeszłości, do tematu kobiet. Wygląda na to, iż jest to mój nieustający bunt przeciwko przemijaniu.”

29.08–31.10.2025
Joanna Helander. Możność utrwalania
Muzeum Literatury im. Adama Mickiewicza w Warszawie, Rynek Starego Miasta 20
30.08 o godz. godz. 15 po wystawie oprowadzą Joanna Helander i Bo Persson
www.muzeumliteratury.pl

Joanna Helander, Stanisław Barańczak, Poznań, 1980

Joanna Helander, Strzelnica w Rudzie Śląskiej, 1977

Joanna Helander, Tadeusz Konwicki, Warszawa, 1982

Idź do oryginalnego materiału